氣相沉積爐的特點(diǎn)是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學(xué)氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無(wú)機材料的方法。這種技術(shù)開(kāi)始是作為涂層的手段而開(kāi)發(fā)的，但目前，不只應用于耐熱物質(zhì)的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個(gè)頗具特征的技術(shù)領(lǐng)域。 　　設備特點(diǎn)在于：(1)在低溫下合成高熔點(diǎn)物質(zhì);(2)析出物質(zhì)的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進(jìn)行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點(diǎn)物質(zhì)，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術(shù)是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點(diǎn)，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿(mǎn)足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時(shí)采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場(chǎng)均勻，無(wú)沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過(guò)程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進(jìn)行有效處理。

　　真空燒結爐操作注意事項大家知道有哪些嗎 　　真空燒結爐操作注意事項大家知道有哪些嗎？如果不知道，今天小編就和大家 　　1、電爐外表應經(jīng)常保持整潔，不用時(shí)應保持真空，否則下次使用會(huì )導致抽真空率降低。 　　2、真空燒結爐及真空系統使用半年左右應對軸向密封部位加注真空密封脂，軸向密封指觀(guān)察窗擋板座、氣動(dòng)真空蝶閥等部位。 　　3、自動(dòng)進(jìn)出熱電偶系統在使用半年后應旋開(kāi)熱電偶座加注擴散泵油。 　　4、真空爐的觀(guān)察窗玻璃在使用爐后應卸下清潔。 　　以上是對于真空燒結爐怎么操作這一問(wèn)題的解答，經(jīng)過(guò)以上介紹可知燒結爐操作流程包含通電前檢查、測量爐內真空度、抽真空、打開(kāi)真空閥、加熱、手動(dòng)升溫、降溫等，操作時(shí)要注意不用時(shí)保持真空、加注真空密封脂、加注擴散泵油、清潔觀(guān)察窗玻璃。如果大家在操作中遇到任何問(wèn)題了可以隨時(shí)聯(lián)系我們，我們的工作人員經(jīng)驗豐富，有專(zhuān)門(mén)的售后人員為您提供及時(shí)的解決方案。