真空速凝爐是怎么工作的 　　真空速凝爐是在真空環(huán)境中對被加熱物品進(jìn)行保護性燒結的爐子，其加熱方式比較多，如電阻加熱、感應加熱、微波加熱等。它是利用感應加熱對被加熱物品進(jìn)行保護性燒結的爐子，可分為工頻、中頻、高頻等類(lèi)型，可以歸屬于真空燒結爐的子類(lèi)。 　　真空速凝爐是在真空或保護氣氛條件下，利用中頻感應加熱的原理使硬質(zhì)合金刀頭及各種金屬粉末壓制體實(shí)現燒結的成套設備，是為硬質(zhì)合金、金屬鏑、陶瓷材料的工業(yè)生產(chǎn)而設計的。 　　一、主要原理及用途真空感應鎢燒結爐是在抽真空后充氫氣保護狀態(tài)下，利用中頻感應加熱的原理，使處于線(xiàn)圈內的鎢坩堝產(chǎn)生高溫，通過(guò)熱輻射傳導到工作上，適用于科研、軍工單位對難熔合金如鎢、鉬及其合金的粉末成型燒結。 　　二、其主要組成為：電爐本體、真空系統、水冷系統、氣動(dòng)系統、液壓系統、進(jìn)出料機構、底座、工作臺、感應加熱裝置(鎢加熱體及***保溫材料)、進(jìn)電裝置、中頻電源及電氣控制系統等。 　　三、真空速凝爐主要功能是在抽真空后充入氫氣保護氣體，控制爐內壓力和氣氛的燒結狀態(tài)?？捎霉鈱Юw維紅外輻射溫度計和鎧裝熱電偶連續測溫(0～2500℃)，并通過(guò)智能控溫儀與設定程序選擇執行狀態(tài)反饋給中頻電源，自動(dòng)控制溫度的高低及保溫程序。

　　氣相沉積爐的特點(diǎn)是什么 　　氣相沉積爐可用于以碳氫氣體為碳源的復合材料的化學(xué)氣相沉積。其中CVD沉積爐是指高溫下的氣相反應，例如，金屬鹵化物、有機金屬、碳氫化合物等的熱分解，氫還原或使它的混合氣體在高溫下發(fā)生化學(xué)反應以析出金屬、氧化物、碳化物等無(wú)機材料的方法。這種技術(shù)開(kāi)始是作為涂層的手段而開(kāi)發(fā)的，但目前，不只應用于耐熱物質(zhì)的涂層，而且應用于高純度金屬的精制、粉末合成、半導體薄膜等，是一個(gè)頗具特征的技術(shù)領(lǐng)域。 　　設備特點(diǎn)在于：(1)在低溫下合成高熔點(diǎn)物質(zhì);(2)析出物質(zhì)的形態(tài)在單晶、多晶、晶須、粉末、薄膜等多種;(3)不僅可以在基片上進(jìn)行涂層，而且可以在粉體表面涂層，特別是在低溫下可以合成高熔點(diǎn)物質(zhì)，在節能方面做出了貢獻，作為一種新技術(shù)是大有前途的。 　　下面小編詳細列舉幾條爐子的特點(diǎn)，以便大家能更好的了解爐子的性能。 　　氣相沉積爐工作區尺寸可達2.5m×2m×4.5m，能滿(mǎn)足超大型工件化學(xué)氣相沉積處理需求；并且，采用多溫區獨立控溫，溫度均勻性好； 　　與此同時(shí)采用特殊結構沉積室，密封效果好，抗污染能力強； 　　氣相沉積爐采用多通道沉積氣路，流場(chǎng)均勻，無(wú)沉積死角，沉積效果好； 　　氣相沉積爐對炭沉積過(guò)程中產(chǎn)生的焦油、固體粉塵、有機氣體等能進(jìn)行有效處理。