真空燒結的爐熱區設計及氣體管理系統運行要點(diǎn)
真空燒結爐熱區設計及氣體管理系統運行要點(diǎn)
真空燒結爐在升溫平和均熱處理溫度達到600°C時(shí),剩余聚合物粘結劑的除氣進(jìn)程產(chǎn)生。為了有用運送氣體物質(zhì)到熱區外,需要在箱體內各個(gè)點(diǎn)都有一股連續同質(zhì)的凈化氣流。氣密爐膽(或馬弗)的規劃可以減小真空燒結爐的尺寸,實(shí)現外部加熱。這種規劃的主要優(yōu)勢在于,爐子供給了高純氣氛并保證熱氣流均勻地穿過(guò)零件。但是,在爐內安裝一個(gè)冷卻風(fēng)扇并不是件容易的事情,這會(huì )導致較長(cháng)的生產(chǎn)周期,爐膽也會(huì )產(chǎn)生更多的投資、維護和能源成本。
其根底架構是一個(gè)圓形的碳鋼結構(分配器),它為熱區、加熱元件和隔熱層供給均勻的支撐。扁平條狀的石墨加熱元件徹底包圍了熱區的圓柱形部分,并且均勻排列以便為工作區供給能量傳遞。附加在前后端部的加熱元件進(jìn)一步提高溫度均勻性至±3°C。保溫層內部是多層高性能石墨氈,外表是CFC資料。工藝氣體的輸入獨立可調且流量可控,這有助于在熱區內部和分配器及爐殼的間隙中堅持一個(gè)壓差。均勻的工藝氣體在熱區內外循環(huán),以保證粘結劑均勻蒸騰,防止粘結劑再次沉積,也使熱區免受污染。
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