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    氣相沉積爐設備特點(diǎn)是什么
    發(fā)布時(shí)間:2023-03-06   瀏覽:2852次

      氣相沉積爐設備特點(diǎn)是什么

      氣相沉積爐適用于化學(xué)氣相沉積法制備碳-碳復合材料,也可用于以碳氫氣體(如C3H8等)為碳源的材料表面或基體等溫CVD/CVI處理,或以三氯甲硅烷(MTS)為氣源的材材料料表面抗氧化涂層、基體改性等。

    氣相沉積爐

      裝料方式有上裝料、底裝料、臥式三種裝料方式。該氣相沉積爐設備特點(diǎn)如下:

      1.多通道沉積氣路,流場(chǎng)均勻,無(wú)沉積死角,沉積效果好;

      2.采用先進(jìn)的控制技術(shù),能精密控制MTS的流量和壓力,爐膛內沉積氣流穩定,壓力波動(dòng)范圍??;

      3.氣相沉積爐設備自動(dòng)化高,關(guān)鍵執行電氣件采用進(jìn)口;操作直觀(guān)、簡(jiǎn)便,觸摸屏經(jīng)過(guò)開(kāi)發(fā),可動(dòng)態(tài)顯示爐子運行狀況并具有自我診斷功能,程序段可直接輸入。

      4.采用特殊結構沉積室,密封效果好,抗污染能力強。


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